anisotrope Ätzkontrolle. Andere Halogenkohlenwasserstoffe sowie das Vorhandensein von Luft oder Sauerstoff sind für die Kontrolle der Tetrafluoride nachteilig, was zu einer besseren Kontrolle des Prozesses führt, was zu besseren Abmessungen und Profilen führt. Bei einer höheren Reinheit von Carbon- oder CF2-Bedingungen liegen die freien Fluorradikale typischerweise in Form von CF3Carbon Tetrafluorid vor, ist unter normalen Bedingungen relativ inert und erstickt. Unter HF-Plasmaprozessen. Kohlenstofftetrafluorid wird mit Sauerstoff zum Ätzen von Polysilizium, Siliciumdioxid und Siliciumnitrid verwendet. Kohlenstofftetrafluorid ist eine Quelle für freie Fluor- oder Kohlenstofffluoridradikale, die in einer Vielzahl von Waferätzen verwendet werden
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